半導体洗浄装置

簡単な説明:

洗浄装置は、主に湿式腐食洗浄などのプロセスで使用する腐食液を集中的に分配するために使用され、パイプラインを通じて装置に送られます。高度な自動化、プロポーショニング、簡単な操作などの特徴があり、耐食性に優れています。適用対象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPAなど腐食タンクの材料は強酸腐食に耐性があります。2.操作面には、目に見えるプッシュプルの透明なPVCドアと窓があります。3.酸貯蔵タンクは輸入PVDF製で、パイプラインは輸入PFA製です。


製品の詳細

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半導体洗浄装置

洗浄装置は、主に湿式腐食洗浄などのプロセスで使用する腐食液を集中的に分配するために使用され、パイプラインを通じて装置に送られます。高度な自動化、プロポーショニング、簡単な操作などの特徴があり、耐食性に優れています。適用対象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPAなど腐食タンクの材料は強酸腐食に耐性があります。2.操作面には、目に見えるプッシュプルの透明なPVCドアと窓があります。3.酸貯蔵タンクは輸入PVDF製で、パイプラインは輸入PFA製です。


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