半导体清洗设备

简短的介绍:

清洗设备主要用于湿式腐蚀清洗等工艺中需要使用的腐蚀性液体的集中分配,通过管道输送至设备。具有自动化程度高、配料准确、操作方便等特点,并具有良好的耐腐蚀性;适用对象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPA等。 1、供酸机采用PP瓷白板,雕刻后经热弯/焊接加工,保证腐蚀罐材质耐强酸腐蚀;2、操作面有可视推拉透明PVC门窗;3、储酸罐采用进口PVDF材质,管道采用进口PFA材质。


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半导体清洗设备

清洗设备主要用于湿式腐蚀清洗等工艺中需要使用的腐蚀性液体的集中分配,通过管道输送至设备。具有自动化程度高、配料准确、操作方便等特点,并具有良好的耐腐蚀性;适用对象:HF、HNO3、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、H2O2、IPA等。 1、供酸机采用PP瓷白板,雕刻后经热弯/焊接加工,保证腐蚀罐材质耐强酸腐蚀;2、操作面有可视推拉透明PVC门窗;3、储酸罐采用进口PVDF材质,管道采用进口PFA材质。


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